CuS YARIMKEÇİRİCİ NAZİK TƏBƏQƏLƏRİNİN VAKUUMDA TERMİKİ BUXARLANDIRMA ÜSULU İLƏ ALINMASI

PREPARATION OF CuS SEMICONDUCTOR THIN FILMS BY THERMAL EVAPORATION IN VACUUM
ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК ПОЛУРОВОДНИКА CUS МЕТОДАМ ТЕРМИЧЕСКОГО ИСПАРЕНИЯ В ВАКУУМЕ
2025-ci il № 2 Cild (131), səh. 148-153
Göndərildi: 02.05.2025 Qəbul edildi: 10.06.2025 Dərc edildi: 27.06.2025
Müəlliflər
Fərman Qocayev
Нахчыванский Государственный Университет
AZERBAIJAN
Büllurə Hacıyeva
Нахчыванский Государственный Университет
AZERBAIJAN
Xülasə
AZƏRBAYCANCA 145 söz
Məqalədə nazik yarımkeçirici CuS təbəqəsinin vakuumda texniki buxarlandırma metodu ilə alınması tədqiq olunur. Göstərilir ki, CuS təbəqəsini almaq üçün lazım olan vakuum qurğusu məşhur “Tesla” qurğusu əsasında yığılmışdır. Məqalədə buxarlandırıcı vakuum qurğusunun prinsipial sxemi geniş analiz edilir. İşdə “Tesla” qurğusunun quruluşu və iş prinsipi də ətraflı şərh edilir. CuS kristal qəfəsinin bəzi parametrləri və onları təyin etmək üçün lazım olan ən vacib düsturlar verilir. Qeyd edilir ki, təbəqənin quruluşu rentgenoqrafik metodla tədqiq edilir. Müəyyən edilmişdir ki, massiv və nazik təbəqələrdə qəfəs parametrlərinin qiymətləri demək olarki üst üstə düşür.
РУССКИЙ 84 слов
В статъе иследуется получение тонких пленок полуроводника CuS методам термического испарения в вакууме. Показано, что вакуумная установка для получения пленок было собрана на основе с пециалъной вакуумной установки “Тесла”. В работе анализируется принципалъная схема вакуумной напылителъной установки. Приводится структуры и принцип работы установки “Тесла”. Дано, некоторые параметры кристаллической решетки CuS. В статъе, также приводится важные формулы для определение скоростъ испарения, толщина пленки и максималъного содержания примесей в пленке. Структура полученных пленок исследоваласъ рентгенографическим методам. Установлено, что параметры решетки в массивных и пленочных образцах совподают.
Açar sözlər
#nazik təbəqə #termiki buxarlandırma #aşqar #vakuum #kristal qəfəs
CC BY 4.0

Bu məqalə Creative Commons Attribution 4.0 International (CC BY 4.0) lisenziyası ilə qorunur. Bu lisenziya orijinal müəllif və mənbəyə istinad vermək şərtilə materialın kopyalanması, paylaşılması, adaptasiya edilməsi və yenidən paylanmasına icazə verir.

CuS YARIMKEÇİRİCİ NAZİK TƏBƏQƏLƏRİNİN VAKUUMDA TERMİKİ BUXARLANDIRMA ÜSULU İLƏ ALINMASI

PREPARATION OF CuS SEMICONDUCTOR THIN FILMS BY THERMAL EVAPORATION IN VACUUM
ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК ПОЛУРОВОДНИКА CUS МЕТОДАМ ТЕРМИЧЕСКОГО ИСПАРЕНИЯ В ВАКУУМЕ
Fərman Qocayev, Büllurə Hacıyeva | DOI: 10.64400/ndueej.049
XÜLASƏ
Məqalədə nazik yarımkeçirici CuS təbəqəsinin vakuumda texniki buxarlandırma metodu ilə alınması tədqiq olunur. Göstərilir ki, CuS təbəqəsini almaq üçün lazım olan vakuum qurğusu məşhur “Tesla” qurğusu əsasında yığılmışdır. Məqalədə buxarlandırıcı vakuum qurğusunun prinsipial sxemi geniş analiz edilir. İşdə “Tesla” qurğusunun quruluşu və iş prinsipi də ətraflı şərh edilir. CuS kristal qəfəsinin bəzi parametrləri və onları təyin etmək üçün lazım olan ən vacib düsturlar verilir. Qeyd edilir ki, təbəqənin quruluşu rentgenoqrafik metodla tədqiq edilir. Müəyyən edilmişdir ki, massiv və nazik təbəqələrdə qəfəs parametrlərinin qiymətləri demək olarki üst üstə düşür.
АННОТАЦИЯ
В статъе иследуется получение тонких пленок полуроводника CuS методам термического испарения в вакууме. Показано, что вакуумная установка для получения пленок было собрана на основе с пециалъной вакуумной установки “Тесла”. В работе анализируется принципалъная схема вакуумной напылителъной установки. Приводится структуры и принцип работы установки “Тесла”. Дано, некоторые параметры кристаллической решетки CuS. В статъе, также приводится важные формулы для определение скоростъ испарения, толщина пленки и максималъного содержания примесей в пленке. Структура полученных пленок исследоваласъ рентгенографическим методам. Установлено, что параметры решетки в массивных и пленочных образцах совподают.
AÇAR SÖZLƏR
nazik təbəqə termiki buxarlandırma aşqar vakuum kristal qəfəs
Ədəbiyyat Siyahısı (6)
  1. Чижиков Д.М.и др. Гидроэлектрометаллургия сульфидных сплавов и штейнов, Москва.1962
  2. Годжаев Ф.Р. Диссертация кондидатская, Баку.1974
  3. Кристаллические структуры арсенидов, сульфидов, арсеносулфидов и их анологов, под, ред. Г.Б.Бокия, Москва.1964
  4. Данилин Б.С. Вакуумное нанесение тонких пленок, Москва.1967
  5. Физика тонких плёнок. Сб. Статей под.ред. Г.Хасса,T∙1-4, 1966-1969
  6. Векшинский С.А. Новый метод металлографического исследования сплавов, Москва.1988
Məqaləyə İstinad Formatları
APA 7TH EDITION
Qocayev, F., Hacıyeva, B. (2025). CuS YARIMKEÇİRİCİ NAZİK TƏBƏQƏLƏRİNİN VAKUUMDA TERMİKİ BUXARLANDIRMA ÜSULU İLƏ ALINMASI. NAXÇIVAN DÖVLƏT UNİVERSİTETİNİN ELMİ ƏSƏRLƏRİ, 131(2), 148-153. https://doi.org/10.64400/ndueej.049
VANCOUVER
Qocayev F, Hacıyeva B. CuS YARIMKEÇİRİCİ NAZİK TƏBƏQƏLƏRİNİN VAKUUMDA TERMİKİ BUXARLANDIRMA ÜSULU İLƏ ALINMASI. NAXÇIVAN DÖVLƏT UNİVERSİTETİNİN ELMİ ƏSƏRLƏRİ. 2025;131(2):148-153. https://doi.org/10.64400/ndueej.049
CHICAGO MANUAL OF STYLE
Qocayev, Fərman, Büllurə Hacıyeva. "CuS YARIMKEÇİRİCİ NAZİK TƏBƏQƏLƏRİNİN VAKUUMDA TERMİKİ BUXARLANDIRMA ÜSULU İLƏ ALINMASI." NAXÇIVAN DÖVLƏT UNİVERSİTETİNİN ELMİ ƏSƏRLƏRİ 131, no. 2 (2025): 148-153. https://doi.org/10.64400/ndueej.049